那么,为什么说光刻机很重要?
光刻机(Lithography Machine),实际上是一种用于集成电路(IC)制造的关键设备。

而在半导体工业中,它的精确度和性能对于芯片制造的成功至关重要。
但我们国家,偏偏在这方面,真的被西方进行了科技垄断得很厉害。

近期,光刻机市场出现了两个新动向。
首先,哈尔滨工业大学公布了一项名为"高速超精密激光干涉仪"的研发成果,该成果获得了首届"金燧奖"中国光电仪器品牌榜金奖,并有人声称解决了7纳米以下的光刻机难题。

这两个消息一看,是不是觉得国内光刻机,有前途了!

确实,这些动态消息引发了许多网友和业内人士的讨论,但也引发了过度自我陶醉。
在过去的一年中,从光子芯片到量子芯片、超分辨率光刻机等等,各种绕过光刻机路线的方案曾多次引起业内的热议。
但实际上,这些路径的研究仍停留在实验室设想的阶段。

《中国科学院院刊》刊登了骆军委和李树深的文章《加强半导体基础能力建设,点亮半导体自立自强发展的“灯塔”》,也提出了以下观点:
认为中国半导体产业进入“黑暗森林”的原因主要在于,半导体领域的技术复杂度极高。

而在半导体产业链上游的任何一种材料、设备甚至配件都可能成为竞争对手施加制约的手段。

此外,供应链和知识产权等复杂问题也对产业发展构成挑战。

因此,从实际角度来看,中国半导体产业确实面临着困境。

但最后还是希望我们国家可以拥有自己的光刻机技术,不要再受制于人。
